微结构图形制备系统研发成功

发布者:数信学院   发布时间:2017-04-06  浏览次数:34    




  微结构图形制备系统,是集衍射光学图形设计与直写输出的光机电算一体化综合系统,为高端全息印刷产业、光学信息安全和防伪、计算全息教学科研以及集成电路掩模直写提供了全新的解决方案。系统配置上,采用并行高速衍射图形生成软件、精密光学成像系统、纳米级电机驱动平台、自动光学聚焦系统、光信号空间调器件以及CCD检测系统、运行控制软件。

微结构图形制备系统实物图

  系统具有高达79000Dpi的光学分别率,支持1D渐变光栅、2D真彩色、彩色微景深、单色微景深、函数浮雕、灰度浮雕、2D渐变光栅、全息透镜、菲涅耳透镜、白光加密、激光加密等图形的制备。

多特征全息综合效果


防伪标签、镭射包装

加密图形及文字

光学可变图形

全息透镜

菲涅耳透镜

2D/3D真彩色

3D真彩色

浮雕图像

集成电路掩模直写

二维彩色再现像







三维彩色再现像






假彩色全息图 







变彩全息






镭射膜












浮雕全息图

微结构图形制备系统主要性能参数

直写幅面

150*150(mm),X-Y Stage 闭环控制

特征尺寸

500nm-50um

分辨率

79000Dpi

重复定位精度

500nm/100nm

光源

418nm/405nm/365nm

曝光最快速度

16帧/S

计算机

Windows OS



联系人:施逸乐

电话:13738932106

传 真:0579-82298863

Email:syl@zjnu.cn

地 址:浙江省金华市迎宾大道688号 浙江师范大学信息光学研究所

邮 编:321004







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